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雙靶磁控濺射儀

2025-04-27 10:39 作者: henantaixing 點(diǎn)擊: 98
雙靶磁控濺射儀 結(jié)構(gòu)
 
(點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料)
 
輸入電源
 
220VAC 50/60Hz, 單相
2000W  (包括泵)
濺射電源
 
安裝有兩個濺射電源
直流(DC)電源:500W,針對于制作金屬膜
射頻(RF)電源:600W,可制作氧化物和金屬膜
同時可選配300W的射頻電源
 
磁控濺射頭
 
儀器中安裝有2個磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層,可通入冷卻水對靶材降溫
其中一個濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材
另一個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導(dǎo)電性靶材
靶材尺寸要求:金屬靶:直徑為50mm,zui大厚度1.5mm
             陶瓷靶:直徑為50mm,zui大厚度6mm
儀器中標(biāo)配一個不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶
濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī))
 
也可以根據(jù)自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭,訂購前需于本公司銷售人員
 
真空腔體
 
真空腔體:300 mm Dia x 300 mm h,采用不銹鋼制作
觀察窗口:  100 mm diameter
腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易
 
載樣臺
 
載樣臺尺寸:140mm dia.(zui大可放置4"的基底)
載樣臺可以旋轉(zhuǎn),其速度為:1 - 20 rpm (可調(diào))
載樣臺zui高可加熱溫度為500℃,控溫精度為+/- 1.0 °C
 
氣體流量控制器
 
 
 
儀器內(nèi)部安裝有2個質(zhì)量流量計
量程為:0-200sccm
氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進(jìn)行操作
真空泵系統(tǒng)
 
配有一套分子泵系統(tǒng)(德國制作),采用一鍵式操作
 
 
 
薄膜測厚儀
 
一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實(shí)時監(jiān)測薄膜的厚度,分辨率為0.10 Å  
LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
 
外形尺寸
 
L1300mm× W660mm× H1200mm
 
重量
 
160 kg
 
質(zhì)保期
 
一年質(zhì)保期,終生維護(hù)
https://www.chem17.com/st152911/erlist_1290255.html
http://www.kjmti.com.cn/Products-24006809.html
TAG:
磁控
濺射
 

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